Fotomaska: Różnice pomiędzy wersjami

Fotomaska jest płytą na której znajdują się obszary nieprzezroczyste i przezroczyste (tzw. okna) i służy do naświetlania wzorów w procesie [[fotolitografii]].

Fotomaski są wykorzystywane w fotolitografii do naświetlania określonych wzorów w [[fotorezyst|fotorezyście]]. Kiedyś dość powszechne były fotomaski emulsyjne, ale obecnie zostałystosuje zmarginalizowanesię przezgłównie fotmaski chromowe - płyty szklane lub kwarcowe pokryte warstwą chromuchromem. Tego typu maski wykonuje się zwykle z podłoży w całości pokrytych chromem, który jest potem usuwany z wybranych obszarów przez wzór z rezystu. Krytycznym etapem jest wykonanie wzoru z rezystu przy czym stosuje się głównie rezysty światłoczułe ([[fotorezyst]]y) lub elektronoczułe. Zależnie od rodzaju rezystu naświetlanie wykonuje się za pomocą: