Fotomaska: Różnice pomiędzy wersjami

Usunięte 13 bajtów ,  6 lat temu
brak opisu edycji
[[File:Chromium photomask (details).JPG|thumb|Detale wzoru na masce chromowej. Czarne pola to obszary blokujące światło pokryte chromem, reszta to okna przepuszczające światło. Żółte oświetlenie widoczne na zdjęciu jest typowe dla pomieszczeń litografii.]]
Fotomaska jest płytą na której znajdują się obszary nieprzezroczyste i przezroczyste (tzw. okna) i służy do naświetlania wzorów w procesie [[fotolitografii]].
 
Fotomaski są wykorzystywane w fotolitografii do naświetlania określonych wzorów w [[fotorezyst|fotorezyście]]. Kiedyś dość powszechne były fotomaski emulsyjne, ale obecnie zostałystosuje zmarginalizowanesię przezgłównie fotmaski chromowe - płyty szklane lub kwarcowe pokryte warstwą chromuchromem. Tego typu maski wykonuje się zwykle z podłoży w całości pokrytych chromem, który jest potem usuwany z wybranych obszarów przez wzór z rezystu. Krytycznym etapem jest wykonanie wzoru z rezystu przy czym stosuje się głównie rezysty światłoczułe ([[fotorezyst]]y) lub elektronoczułe. Zależnie od rodzaju rezystu naświetlanie wykonuje się za pomocą:
* Litografii laserowej - urządzenie charakteryzuje się niższą ceną, ale oferuje większy wymiar krytyczny co oznacza niższą rozdzielczość.
<gallery>