Fotomaska: Różnice pomiędzy wersjami

Plik:Chromium photomask (details).JPG|Detale wzoru na masce chromowej. Czarne pola to obszary blokujące światło pokryte chromem i blokujące światło, reszta to okna bez chromu przepuszczające światło.

Fotomaski są wykorzystywane w fotolitografii do naświetlania określonych wzorów w [[fotorezyst|fotorezyście]]. Kiedyś dość powszechne były fotomaski emulsyjne, ale obecnie stosuje się głównie fotmaskifotomaski chromowe - płyty szklane lub kwarcowe pokryte chromem. Tego typu maski wykonuje się zwykle z podłoży w całości pokrytych chromem, który jest potem usuwany z wybranych obszarów przez wzór z rezystu. Krytycznym etapem jest wykonanie wzoru z rezystu przy czym stosuje się głównie rezysty światłoczułe ([[fotorezyst]]y) lub elektronoczułe. Zależnie od rodzaju rezystu naświetlanie wykonuje się za pomocą: