Kryształ fotoniczny: Różnice pomiędzy wersjami

[wersja nieprzejrzana][wersja przejrzana]
Usunięta treść Dodana treść
TXiKiBoT (dyskusja | edycje)
m robot dodaje: he:גביש פוטוני
m WP:SK, kat.
Linia 1:
[[GrafikaPlik:Opal_Armband_800pixOpal Armband 800pix.jpg|thumb|250px|Bransoletka z minerałem [[Opal (minerał)|opalu]], który posiada naturalną strukturę periodyczną, dzięki której występuje zjawisko [[iryzacja|iryzacji]]]]
'''Kryształ fotoniczny''' to struktura o periodycznie (okresowo) rozłożonym współczynniku załamania, w której występuje fotoniczna przerwa energetyczna. Własności kryształów fotonicznych sprawiają, że są obecnie bardzo aktywnie badaną grupą materiałów i znajdują one liczne zastosowania.
 
Przykłady wyglądu kryształów fotonicznych (kolejno 1D, 2D i 3D): [http://ab-initio.mit.edu/photons/tutorial/tutorial-small.gif]
 
[[Faza krystaliczna|Kryształy]] fotoniczne [http://ptf.fuw.edu.pl/ow/wasik02.html] zwykle wytwarzane są sztucznie w laboratoriach, ale występują również w przyrodzie (np. [[Opal (minerał)|opal]]). Koncepcja stworzenia kryształów fotonicznych powstała jednocześnie w [[1987]] w dwóch ośrodkach badawczych na terenie [[Stany Zjednoczone|USA]]. Pierwszy - [[Eli Yablonovitch]] (Bell Communications Research w [[New Jersey]]) pracował nad materiałami dla [[Tranzystor|tranzystorówtranzystor]]ów fotonicznych - sformułował pojęcie '''fotoniczna przerwa wzbroniona''' ([[język angielski|ang.]] ''photonic bandgap''). W tym samym czasie - [[Sajeev John]] (Priceton University) pracował nad zwiększeniem wydajności [[Laser|laserówlaser]]ów stosowanych w [[telekomunikacja|telekomunikacji]] - odkrył tę samą przerwę. W [[1991]] roku [[Eli Yablonovith]] uzyskał pierwszy kryształ fotoniczny. W [[1997]] roku opracowana została masowa metoda wytwarzania kryształów ([[Shanhui Fan]], [[John D. Joannopoulos]]).
 
Obecnie wytwarzane są struktury fotoniczne z przerwą fotoniczną dla [[długość fali|długości fal]] [[fala elektromagnetyczna|elektromagnetycznych]] z zakresu widzialnego (400–700 [[nanometr|nm]]). Przerwa fotoniczna występuje dla fal o długościach zbliżonych do okresu rozkładu współczynnika załamania - w przypadku fal widzialnych oznacza to, że na jeden okres rozkładu współczynnika załamania przypada ilość rzędu 1000 warstw atomowych. Występowanie fotonicznej [[przerwa wzbroniona|przerwy wzbronionej]] jest analogiczne jak w przypadku [[półprzewodnik|półprzewodników]]ów ([[Równanie Schrödingera]]). Kryształy fotoniczne wytwarzane są m.in. z [[krzem]]u, również porowatego. Ze względu na budowę, kryształy fotoniczne dzieli się na jedno-, dwu- i trójwymiarowe. Najprostsza struktura to struktura jednowymiarowa. Jest to w istocie zwierciadło [[William Lawrence Bragg|Bragga]] złożone z wielu warstw na przemian o dużym i małym współczynniku załamania światła. Zwierciadło Bragga działa jak zwykły filtr przepustowy, pewne częstotliwości są odbijane, a inne przepuszczane. Jeżeli ''zwiniemy'' [[zwierciadło Bragga]] w rurkę to otrzymamy strukturę dwuwymiarową.
 
Do modelowania pola elektromagnetycznego w kryształach fotonicznych stosuje się wiele metod znanych z innych
dziedzin optyki czy elektrodynamiki. Wymienić tu można: metodę fal płaskich - PWM ([[język angielski|ang.]] ''Plane wave method''), metodę różnic skończonych w dziedzinie czasu FDTD (z ang. ''Finite Difference Time Domain''), polegającą na numerycznym rozwiązywaniu równań Maxwella z zależnością czasową dla [[pole elektryczne|pola elektrycznego]] i [[pole magnetyczne|pola magnetycznego]], metodę momentów, wraz z jej licznymi odmianami, a także inne liczne metody półanalityczne i w pełni analityczne. Jak do tej pory, analityczne rozwiązanie równań Maxwella zostało znalezione tylko w najprostszym, jednowymiarowym krysztale fotonicznym.
 
'''Niektóre zastosowania:'''
Linia 20:
* [[Mikrorezonator]]y,
* Metamateriały – materiały lewoskrętne,
* Szerokopasmowe testowanie urządzeń fotonicznych, spektroskopia, interferometria czy koherentna tomografia optyczna (OCT) - wykorzystanie silnego efektu przesunięcia fazowego.
 
==Linki zewnętrzne==
 
== Linki zewnętrzne ==
W Polsce prace nad wytwarzaniem i modelowaniem kryształów i światłowodów fotonicznych są prowadzone w UMCS w [[Lublin]]ie, na Politechnice Wrocławskiej[http://www.wemif.pwr.wroc.pl/photonicsgroup/],[http://www.if.pwr.wroc.pl/instytut/labe/labe/labe.html], Politechnice Łódzkiej (w Instytucie Fizyki[http://phys.p.lodz.pl]), Politechnice Warszawskiej[http://www.imio.pw.edu.pl/wwwzo] oraz na UW (Zakład Optyki Informacyjnej [http://zoi.fuw.edu.pl]) i w ITME w Warszawie[http://www.itme.edu.pl/].
 
Linia 30 ⟶ 29:
 
[[Kategoria:Optoelektronika]]
[[Kategoria:Fizyka materii skondensowanej]]
 
[[ca:Cristall fotònic]]