Fotomaska: Różnice pomiędzy wersjami

Dodane 196 bajtów ,  6 lat temu
brak opisu edycji
[[File:Chromium photomask (details).JPG|thumb|Detale wzoru na masce chromowej. Czarne pola to obszary blokujące światło pokryte chromem, reszta to okna przepuszczające światło. Żółte oświetlenie widoczne na zdjęciu jest typowe dla pomieszczeń litografii.]]
Fotomaska jest płytą na której znajdują się obszary nieprzezroczyste i przezroczyste (tzw. okna) i służy do naświetlania wzorów w procesie fotolitografii.
Fotomaska jest płytą na której znajdują się obszary nieprzezroczyste i przezroczyste (tzw. okna). Fotomaski są wykorzystywane w fotolitografii do naświetlania określonych wzorów w [[fotorezyst|fotorezyście]]. Kiedyś dość powszechne były fotomaski emulsyjne, ale obecnie zostały zmarginalizowane przez fotmaski chromowe - płyty szklane lub kwarcowe pokryte warstwą chromu. Tego typu maski wykonuje się zwykle z podłoży w całości pokrytych chromem, który jest potem usuwany z wybranych obszarów przez wzór z rezystu. Krytycznym etapem jest wykonanie wzoru z rezystu przy czym stosuje się głównie rezysty światłoczułe ([[fotorezyst]]y) lub elektronoczułe. Zależnie od rodzaju rezystu naświetlanie wykonuje się za pomocą:
* litografii laserowej - urządzenie charakteryzuje się niższą ceną, ale oferuje większy wymiar krytyczny co oznacza niższą rozdzielczość.
 
Fotomaska jest płytą na której znajdują się obszary nieprzezroczyste i przezroczyste (tzw. okna). Fotomaski są wykorzystywane w fotolitografii do naświetlania określonych wzorów w [[fotorezyst|fotorezyście]]. Kiedyś dość powszechne były fotomaski emulsyjne, ale obecnie zostały zmarginalizowane przez fotmaski chromowe - płyty szklane lub kwarcowe pokryte warstwą chromu. Tego typu maski wykonuje się zwykle z podłoży w całości pokrytych chromem, który jest potem usuwany z wybranych obszarów przez wzór z rezystu. Krytycznym etapem jest wykonanie wzoru z rezystu przy czym stosuje się głównie rezysty światłoczułe ([[fotorezyst]]y) lub elektronoczułe. Zależnie od rodzaju rezystu naświetlanie wykonuje się za pomocą:
* elektronolitografii - urządzenie droższe w zakupie, ale można uzyskać mniejszy wymiar krytyczny (wyższą rozdzielczość).
* litografiiLitografii laserowej - urządzenie charakteryzuje się niższą ceną, ale oferuje większy wymiar krytyczny co oznacza niższą rozdzielczość.
<gallery>
Plik:Laser lithography.jpg|Urządzenie do litografii laserowej (Heidelberg Instruments, DWL 66FS)
Plik:Laser lithography writing head and table.JPG|Głowica rysująca i stolik wewnątrz komory urządzenia do litografii laserowej.
</gallery>
* elektronolitografiiElektronolitografii - urządzenie droższe w zakupie, ale można uzyskać mniejszy wymiar krytyczny (wyższą rozdzielczość).
Po naświetleniu wzoru w rezyście wywołuje się go odpowiednim wywoływaczem. W ten sposób otwiera się okna w rezyście przez, które następnie usuwa się chrom. Najpopularniejszą metodą jest mokre trawienie w kwaśnych rozworach. Ostatecznie (po usunięciu już zbędnego rezystu) uzyskuje się płytę z wzorem, którego nieprzezroczyste obszary pokryte są chromem.
Gotowa fotomaska jest dalej używana w procesie [[fotolitografii]] do powielania wzoru na ostatecznych strukturach.