Wersja z 14:02, 25 lis 2014 edytuj Sei Jikok (dyskusja \| edycje) Redaktorzy 851 edycji Nie podano opisu zmian Znacznik: VisualEditor ← poprzednia edycja		Wersja z 14:07, 25 lis 2014 edytuj anuluj edycję Sei Jikok (dyskusja \| edycje) Redaktorzy 851 edycji Nie podano opisu zmian Znacznik: VisualEditor następna edycja →
Linia 1: [[File:Chromium photomask (details).JPG\|thumb\|Detale wzoru na masce chromowej. Czarne pola to obszary blokujące światło pokryte chromem, reszta to okna przepuszczające światło. Żółte oświetlenie widoczne na zdjęciu jest typowe dla pomieszczeń litografii.]] Fotomaska jest płytą na której znajdują się obszary nieprzezroczyste i przezroczyste (tzw. okna) i służy do naświetlania wzorów w procesie fotolitografii. Fotomaska jest płytą na której znajdują się obszary nieprzezroczyste i przezroczyste (tzw. okna). Fotomaski są wykorzystywane w fotolitografii do naświetlania określonych wzorów w [[fotorezyst\|fotorezyście]]. Kiedyś dość powszechne były fotomaski emulsyjne, ale obecnie zostały zmarginalizowane przez fotmaski chromowe - płyty szklane lub kwarcowe pokryte warstwą chromu. Tego typu maski wykonuje się zwykle z podłoży w całości pokrytych chromem, który jest potem usuwany z wybranych obszarów przez wzór z rezystu. Krytycznym etapem jest wykonanie wzoru z rezystu przy czym stosuje się głównie rezysty światłoczułe ([[fotorezyst]]y) lub elektronoczułe. Zależnie od rodzaju rezystu naświetlanie wykonuje się za pomocą:▼ * litografii laserowej - urządzenie charakteryzuje się niższą ceną, ale oferuje większy wymiar krytyczny co oznacza niższą rozdzielczość.▼ ▲~~Fotomaska jest płytą na której znajdują się obszary nieprzezroczyste i przezroczyste (tzw. okna).~~ Fotomaski są wykorzystywane w fotolitografii do naświetlania określonych wzorów w [[fotorezyst\|fotorezyście]]. Kiedyś dość powszechne były fotomaski emulsyjne, ale obecnie zostały zmarginalizowane przez fotmaski chromowe - płyty szklane lub kwarcowe pokryte warstwą chromu. Tego typu maski wykonuje się zwykle z podłoży w całości pokrytych chromem, który jest potem usuwany z wybranych obszarów przez wzór z rezystu. Krytycznym etapem jest wykonanie wzoru z rezystu przy czym stosuje się głównie rezysty światłoczułe ([[fotorezyst]]y) lub elektronoczułe. Zależnie od rodzaju rezystu naświetlanie wykonuje się za pomocą: * elektronolitografii - urządzenie droższe w zakupie, ale można uzyskać mniejszy wymiar krytyczny (wyższą rozdzielczość).▼ ▲* ~~litografii~~Litografii laserowej - urządzenie charakteryzuje się niższą ceną, ale oferuje większy wymiar krytyczny co oznacza niższą rozdzielczość. <gallery> Plik:Laser lithography.jpg\|Urządzenie do litografii laserowej (Heidelberg Instruments, DWL 66FS) Plik:Laser lithography writing head and table.JPG\|Głowica rysująca i stolik wewnątrz komory urządzenia do litografii laserowej. </gallery> ▲* ~~elektronolitografii~~Elektronolitografii - urządzenie droższe w zakupie, ale można uzyskać mniejszy wymiar krytyczny (wyższą rozdzielczość). Po naświetleniu wzoru w rezyście wywołuje się go odpowiednim wywoływaczem. W ten sposób otwiera się okna w rezyście przez, które następnie usuwa się chrom. Najpopularniejszą metodą jest mokre trawienie w kwaśnych rozworach. Ostatecznie (po usunięciu już zbędnego rezystu) uzyskuje się płytę z wzorem, którego nieprzezroczyste obszary pokryte są chromem. ~~Gotowa fotomaska jest dalej używana w procesie [[fotolitografii]] do powielania wzoru na ostatecznych strukturach.~~

Fotomaska: Różnice pomiędzy wersjami