Niebieski laser: Różnice pomiędzy wersjami

[wersja przejrzana][wersja przejrzana]
Usunięta treść Dodana treść
Stepa (dyskusja | edycje)
Nie podano opisu zmian
Linia 1:
'''Niebieski laser półprzewodnikowy''' to potoczna nazwa [[Laser półprzewodnikowy|diody laserowej]] zbudowanej na bazie [[Azotek galu|azotku galu]] (GaN). Nazwa pochodzi od koloru światła które emituje dioda, jest ona zresztą w znacznym stopniu myląca ze względu na to, że najbardziej typowa konstrukcja tego lasera emituje światło o [[długość fali]] 405 nm. [[Oko]] ludzkie widzi takie światło jako [[kolor purpury|purpurowe]].
Pierwsza półprzewodnikowa dioda laserowa została wytworzona przez Shuji'ego Nakamurę z japońskiej firmy Nichia Chemicals
na przełomie roku 1995 i 1996<ref>przypis, S. Nakamura, S. Pearton, G. Fasol, "The blue laser diode", Springer 1997,2000</ref>. Był to laser emisji krawędziowej, z warstwa aktywną zbudowaną ze studni kwantowych InGaN. Początkowo struktury te były wytwarzane na podłożach z szafiru, obecnie lasery mają podłoża z monokrystalicznego azotku galu.
Linia 23:
 
==Lasery emisji powierzchniowej - VCSEL==
Konstrukcja laserów emisji powierzchniowej na azotku galu (Vertical Cavity Surface Emitting Laser) od dawna była celem wielu grup badawczych. Jednak, konstrukcja tych przyrządów była niezwykle trudna ze względu na problemy w otrzymaniu monolitycznych zwierciadeł Bragga, posiadajacych zarówno dobre właściwości strukturalne jak i zadowalające parametry elektryczne. Dopiero ostatnio dzieki zastosowaniu technik hybrydowych (użycie zewnętrznych zwierciadeł dielektrycznych) udało sie grupie z Taiwanu zademonstrowac po praz pierwszy taki laser. <ref>"CW lasing of current injection blue GaN-based vertical cavity surface emitting laser". Tien-Chang Lu, Chih-Chiang Kao, Hao-Chung Kuo, Gen-Sheng Huang, and Shing-Chung WangAppl. Phys. Lett. 92, 141102 (2008); </ref> Wkrótce potem, firma Nichia zademonstrowała pracujacy w temperaturze pokojowej azotkowy VCSEL<ref>Room-Temperature CW Lasing of a GaN-Based Vertical-Cavity Surface-Emitting Laser by Current Injection
Yu Higuchi, Kunimichi Omae, Hiroaki Matsumura, and Takashi Mukai , Appl. Phys. Express 1 (2008) 121102</ref>
 
</ref>
 
==Lasery polarytonowe==
Lasery polarytonowe stanowią zupełnie nowa koncepcję emiterów koherentnego światła. W klasycznym laserze półprzewodnikowym mechanizmem wzmocnienia jest emisja wymuszona, która prowadzi do uporządkowani układu fotonów. W laserze polarytonowym, mamy do czynienia z polarytonami ekscytonowymi, quasi-cząstkami będącymi kombinacją stanów fotonowych i ekscytonowych[[ekscyton]]owych. Takie cząstki mają charakter bozonowy. W przypadku ich kondensacji, cały system-elektronowo fotonowy staje się koherentny i możliwa jest emisja światła o charakterze laserowym, bez inwersji obsadzeń! Azotek galu jest materiałem szczególnie dobrze predestynowanym do wytworzenia na nim takich emiterów, ze względu między innymi na wysoką energię wiązania ekscytonów. Pierwszy, pompowany optycznie, laser polarytonowy na azotku galu został zademonstrowany przez grupę z EPFL - Szwajcaria i Uniwersytetu w Southhampton w Wielkiej Brytanii<ref>S. Christopoulos, G. Baldassarri Hoger von Hogersthal, A. J. D. Grundy, P. G. Lagoudakis, A.V. Kavokin, and J. J. Baumberg, G. Christmann, R. Butté, E. Feltin, J.-F. Carlin, and N. Grandjean
Room-Temperature Polariton Lasing in Semiconductor Microcavities
Phys. Rev. Lett. 98, 126405 (2007) </ref>
</ref>
 
== Niebieski laser w Europie ==
Linia 40 ⟶ 37:
# -grudzień 2001, CBW PAN "Unipress" Warszawa (obecnie IWC PAN)
# -maj 2002, Uniwersytet w Bremen (grupa prof. Detlefa Hommela)
Badania niebieskich laserów półprzewodnikowych prowadzone były w późniejszych latach również na uniwersytetach w Sheffield w Wielkiej Brytanii, Bath w Wielkiej Brytanii, w Instytucie Fraunhofera we Freiburgu i w Ecole Polytechnique Fédérale de Lausanne (EPFL) - Szwajcaria
 
Jesli chodzi o produkcję przemysłową laserów niebieskich w Europie tylko dwie firmy obecnie przygotowują się do wdrożenia takowej. Sa to niemiecka firma Osram OS i polska firma TopGaN będąca spin-offem Instytutu Wysokich Ciśnień w Warszawie. Obie wspomniane firmy mają zamiar rozpocząć seryjną produkcję w 2009 roku.
 
== Polska technologia produkcji ==
W Polsce technologię niebieskich laserów na azotku galu rozwija [[Instytut Wysokich Ciśnień PAN]] w Warszawie i jego spin-off TopGaN Sp. z o.o[http://www.topgan.fr.pl]. Ta technologia oparta jest na metodzie wysokociśnieniowej syntezy azotku galu, która umożliwia otrzymywanie podłoży o bardzo niskiej ilości dyslokacji. Polski niebieski laser został zademonstrowany w grudniu 2001 <ref>I. Grzegory, M. Bockowski, S. Krukowski, B. Łucznik, M. Wroblewski, J.L. Weyher, M. Leszczynski, P. Prystawko, R. Czernecki, J. Lehnert, G. Nowak, P . Perlin, H. Teisseyre, W. Purgal, W. Krupczynski, T. Suski, LH. Dmowski , E. Litwin-Staszewska,C. Skierbiszewski, S. Łepkowski , S. Porowski,
„Blue laser on high N2 pressure-grown bulk GaN”
Acta Physica Polonica A, vol.100, suppl., 229 (2001)
Linia 64 ⟶ 61:
# Diagnostyka medyczna
# Urządzenia fotolitograficzne
 
== Polska technologia produkcji ==
Ma wymiary kilku dziesiątych milimetra, program jego budowy realizowany był i jest w [[Instytut Wysokich Ciśnień PAN|Instytucie Wysokich Ciśnień PAN]]. <ref>[http://www.laboratoria.net/pl/modules.php?name=News&file=article&sid=1617 Niebieski laser, polski skarb]</ref>
 
Emituje [[kwant]]y [[światło|światła]] ([[foton]]y) o energii dwukrotnie większej od światła lasera czerwonego.
 
Światło niebieskie ma znacznie większą energię niż czerwone, a także krótszą [[długość fali|falę]] (ok. 415 [[nanometr|nm]]), dzięki czemu pozwala na skupienie wiązki lasera na mniejszym polu. Niebieskie lasery o pracy impulsowej posiadają [[moc]] do 1 W natomiast o pracy ciągłej do 200 [[miliwat|mW]].
Polska posiada około 2% udziału w rynku niebieskich laserów, a utrzymanie lub powiększenie tego udziału potrzebuje jeszcze wiele pracy i inwestycji.
 
== Inne odmiany ==
Istnieje również japońska odmiana niebieskiego lasera do którego użyto podłoża z [[szafir]]u i dopiero nałożono warstwę GaN ([[azotek galu]]), w odróżnieniu od polskiego o podłożu z kryształu GaN.
Użycie podłoża z GaN daje jednolitą strukturę urządzenia co eliminuje błędy i defekty związane z łączeniem kryształów o różnej strukturze<ref>[http://www.topgan.fr.pl/?what=text&id=5&item_id=&language=pl Technologia produkcji kryształów GaN]</ref>.
 
== Patenty ==
Polska technologia (produkcja za pomocą metody epitaksji wodorkowej (HVPE)<ref>[http://www.elektronikab2b.pl/index.php/content/view/535/98/lang,pl/ Polski niebieski laser wielki sukces czy manipulacja doskonała?]</ref>), jest chroniona kilkoma międzynarodowymi [[patent]]ami
 
{{Przypisy}}