Fotopolimeryzacja
|
Ten artykuł od 2023-01 zawiera treści, przy których brakuje odnośników do źródeł. |
Fotopolimeryzacja – proces polegający na polimeryzacji monomerów w obecności fotoinicjatora, który pod wypływem światła ultrafioletowego (UV) lub widzialnego (VIS) ulega rozpadowi z wytworzeniem centrów aktywnych (wolnych rodników, jonów), inicjujących reakcję polimeryzacji.
Podstawowe właściwości
edytujSkład
edytujDokładny skład kompozycji światłoutwardzalnej jest zależny od właściwości, jakie powinien posiadać gotowy materiał. Podstawowymi składnikami takiej kompozycji są:
- mieszanina monomerów
- układ inicjujący
- dodatki, takie jak: stabilizatory, napełniacze, środki barwiące, związki antyelektrostatyczne, promotory adhezji itp.
Monomery
edytujMonomery (met)akrylowe słabo absorbują światło, dlatego w celu wytworzenia odpowiedniej ilości cząsteczek reaktywnych, wolnych rodników lub jonów, konieczne jest zastosowanie fotoinicjatorów, które można podzielić na:
- fotoinicjatory I typu – rodniki pierwotne powstają podczas fotodysocjacji wiązania C−C,
- fotoinicjatory II typu – rodnik powstaje w wyniku oderwania atomu wodoru od cząsteczki donora tzw. koinicjatora, również monomeru.
Wytworzone z fotoinicjatorów, pod wpływem naświetlania, aktywne cząsteczki inicjują dalej reakcję polimeryzacji. Przebiega ona ze stale malejącą szybkością, aż do chwili zaniku aktywnych miejsc rodnikowych.
Etapy fotopolimeryzacji
edytujInicjowanie
edytuj- In In* 2In•
- In•
+ M InM•
- gdzie:
- In – cząsteczka inicjatora
- In* – wzbudzony stan inicjatora
- In•
– rodnik pierwotny - kd – stała szybkości rozpadu inicjatora
- InM•
– rodnik inicjujący - M – monomer
- gdzie:
Propagacja (rozprzestrzenianie się zaburzenia)
edytuj- Mn•
+ M Mn+
1- gdzie:
- Mn•
– makrorodnik (rodnikowy koniec łańcucha) - kp – współczynnik szybkości propagacji
- Mn•
- gdzie:
Terminacja (zakończenie)
edytuj- Zanik centrów aktywnych w reakcji dwóch makrorodników ze sobą w wyniku rekombinacji lub dysproporcjonowania:
- Mn•
+ Mm•
P
- Zanik centrów aktywnych w reakcji makrorodnika z rodnikiem pierwotnym:
- Mn•
+ In•
MnIn
- Zanik centrów aktywnych w wyniku pułapkowania wzrastających makrorodników:
- Mn•
(Mn•
) unieruchomiony- gdzie:
- P – jedna lub dwie makrocząsteczki bez centrów aktywnych.
- gdzie:
Reakcje uboczne
edytujPrzeniesienie łańcucha
edytuj- Mn•
+ AX MnX + A•
Reinicjowanie
edytuj- A•
+ M M•
- gdzie:
- AX – cząsteczka monomeru,rozpuszczalnika,inicjatora lub innej substancji
- X – atom lub grupa atomów ulegająca przeniesieniu
- kr – współczynnik szybkości reinicjowania.
- gdzie:
Czynniki
edytujPrzebieg fotopolimeryzacji zależy od:
- temperatury
- rodzaju atmosfery, w której prowadzi się reakcję
- długości fali
- natężenia światła
- budowy chemicznej monomerów
- stężenia monomerów
- zawartości pozostałych składników mieszaniny oraz ich stanu fizycznego.
Rodzaje fotopolimeryzacji
edytujZastosowanie fotopolimeryzacji
edytujW procesie fotopolimeryzacji powstają produkty dla różnych dziedzin przemysłu, m.in. budownictwa, medycyny, stomatologii, mikroelektroniki. W budownictwie fotopolimeryzacja najczęściej stosowana jest do utwardzania (usieciowania) klejów, lakierów, szpachli i fug, powłok ochronnych stosowanych do powlekania naturalnego kamienia, ceramiki, linoleum, drewna i betonu[1].
Materiał, który ma być utwardzony w procesie fotopolimeryzacji, układany jest w postaci płynnej lub półpłynnej. Uzyskane w ten sposób cienkie warstwy materiału składającego się z monomerów i ewentualnie wypełniacza nie stanowią bariery dla światła inicjującego reakcję substancji fotoutwardzalnej.
Aspekty dotyczące przykładowych technologii układania
edytujPowłoki stosowane na podłożach betonowych
edytujPrzygotowanie podłoża betonowego pod cienkowarstwową posadzkę fotoutwardzalną polega na odkurzeniu i odpyleniu powierzchni, ewentualnie poprzedzonym szlifowaniem lub frezowaniem, lub śrutowaniem, wykonywanym w celu uzyskania odpowiedniej przyczepności podłoża. Podłoże powinno mieć minimalną wytrzymałość na odrywanie 1,5 MPa. Wilgotność podłoża betonowego może wynosić maksymalnie 4%. Układanie posadzki robione jest w postaci płynnej, a następnie utwardzenie przy użyciu maszyn naświetlających[1].
Powłoki stosowane na podłożach drewnianych
edytujPrzygotowanie podłoża polega na cyklinowaniu i odpyleniu powierzchni. Jako materiał fotoutwardzalny można zastosować odpowiednie oleje lub lakiery. Utwardzenie następuje przy użyciu maszyn naświetlających[2].
Wymagania dotyczące oświetlenia
edytujSystemy posadzkowe utwardzane światłem UV powinny być nanoszone przy niewielkim natężeniu światła, gdyż światło słoneczne powoli utwardza (sieciuje) materiał. W pomieszczeniu zalecane jest światło sztuczne, najlepiej o barwie czerwonej[1].
Urządzenia do inicjowania fotopolimeryzacji
edytujDo zainicjowania fotopolimeryzacji potrzebne są specjalne lampy o dużej mocy. Zalecane są lampy UV o mocy min. 120 W/cm2 i intensywności 2500 mJ/cm2. Lampy występują w postaci urządzeń ręcznych oraz jako wózki naświetlające[1].
Wady i zalety
edytujZalety
edytuj- niemal nieograniczony czas na operacje nakładania nawierzchni i kontroli jej jakości,
- krótki czas wiązania, umożliwiający natychmiastową możliwość użytkowania,
- wysoka odporność mechaniczna powierzchni,
- materiały przyjazne dla środowiska (brak konieczności stosowania chemicznych utwardzaczy),
- wysoka wydajność na jednostkę powierzchni przy układaniu na posadzkach.
Wady
edytuj- konieczność stosowania dodatkowych maszyn/urządzeń (lampy),
- skomplikowanie procesu układania,
- konieczność wyeliminowania/ograniczenia światła naturalnego, które zaburza proces technologiczny.
Przypisy
edytuj- ↑ a b c d Lakiery utwardzane UV, www.posadzki.milar.pl [zarchiwizowane 2015-07-06] .
- ↑ Technologie UV w parkieciarstwie – bezkrwawa rewolucja [online], Drewno.pl [dostęp 2023-01-24] .